Анотація до роботи:

Репета В.Б. Удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку. – Рукопис.

Дисертація на здобуття наукового ступеня кандидата технічних наук за спеціальністю 05.05.01. – машини і процеси поліграфічного виробництва. – Українська академія друкарства, Львів, 2006.

Дисертацію присвячено удосконаленню технології УФ-лакування відбитків офсетного друку.

На основі визначального фактору – хімічного складу лакових композицій – здійснено класифікацію технологій формування прозорих лакових покриттів на друкарських відбитках.

Досліджено кінетику фотополімеризації УФ-лаків, виявлено екстремальний характер залежності липкості від часу фотоініційованої радикальної полімеризації в аеробних умовах тонких шарів УФ-лаків, що пояснюється одночасним перебігом процесів інгібірування молекулярним киснем переважно верхніх шарів і фронтальної пошарової полімеризації в напрямку до верхніх шарів.

Виявлено значне скорочення у 2 рази індукційного періоду УФ-полімеризації досліджуваних лаків в присутності аргону, порівняно з азотом, що пояснюється його більшою питомою масою і кращою розчинністю.

Спираючись на результати експериментальних досліджень, розроблено пристрій УФ-сушіння лакових покриттів у середовищі аргону. Більша питома маса аргону в порівнянні з повітрям, дозволяє розмістити камеру, де буде відбуватися опромінення лакового покриття, нижче від вісі вивідного транспортера друкарської машини, з каналами розміщеними під кутом 45-60⁰ стосовно горизонтальної площини. Таке розміщення камери і каналів для проходження транспортера знизить попадання повітря в камеру і забезпечить високу концентрацію аргону в зоні опромінення.

У дисертаційній роботі розв’язано наукову задачу удосконалення технології УФ-лакування відбитків офсетного друку. При цьому отримано такі результати:

1. Аналіз науково-технічної літератури дозволив розробити класифікацію технологій формування захисно-декоративних лакових покриттів на друкарських відбитках, яка систематизує склад лакових композицій, механізми їх плівкоутворення та пристрої для проведення процесу плівкоутворення або його інтенсифікації і дозволив визначити напрямок наукових досліджень;

2. Виявлено екстремальний характер залежності липкості лакових покриттів від часу фотоініційованої радикальної полімеризації в аеробних умовах тонких шарів УФ-лаків, що пояснюється одночасним перебігом процесів інгібування молекулярним киснем переважно верхніх шарів і фронтальної пошарової полімеризації в напрямку до верхніх шарів;

3. Розроблено новий склад фотополімеризаційноздатної лакової композиції на основі епоксиакрилатного олігомеру, яка характеризується високою швидкістю отвердження;

4. Встановлено, що для досягнення максимальної швидкості фотополімеризації з мінімальним ступенем пожовтіння утвореного лакового покриття, концентрація фотоініціатора диізопропоксиацетофенону і мономеру ДМАЕА складає 10 і 2 % відповідно.

5. Експериментально підтверджено, що найменший час фотополімеризації спостерігається в середовищі аргону. Це пояснюється його питомою масою і кращою розчинністю в органічних сполуках у порівнянні з азотом.

6. Опромінення лакових покриттів в середовищі аргону дозволяє зменшити концентрацію фотоініціатора в композиції в 10 разів і збільшити в 1,14 разів зносостійкість утворених лакових покриттів.

7. Обробка офсетних відбитків коронним розрядом дозволяє збільшити розтікання на них лакової композиції і забезпечити високі адгезійні властивості покриття, внаслідок зростання полярної складової поверхневого натягу обробених поверхонь. Встановлено, що для паперу і шару фарби достатньою є потужність коронного розряду 100-120 Вт при швидкості переміщення матеріалу 30м/хв, оскільки подальше її збільшення майже не змінює поверхневого натягу.

8. Розроблено пристрій УФ-сушіння лакованих відбитків в середовищі аргону. Особливістю УФ-сушильного пристрою є те, що , камера, де буде відбуватися опромінення лакового покриття, розміщується набагато нижче від вісі вивідного транспортера друкарської машини, з ввідним та вивідним каналами розміщеними під кутом 45-60⁰ стосовно горизонтальної площини. Таке розміщення камери і каналів дозволяє зменшити попадання повітря у камеру і забезпечити високу концентрацію аргону у зоні опромінення.

Публікації автора:

1. Шибанов В.В., Репета В.Б., Маршалок И.Й., Стахира В.М. Липкость флексографских фотополимеризующихся материалов и методика ее определения // Издательско-полиграфический комплекс на пороге третьего тысячелетия: материалы международной научно-технической конференции.-Минск. БГТУ, 2001. –С. 124-132.

2. Репета В., Шибанов В. Вплив властивостей картону на блиск УФ-лакованих відбитків // Комп’ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№7. –С.199-201.

3. Репета В., Маршалок І., Шибанов В. Фотополімеризаційноздатні лакові композиції // Комп’ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№8. –С.188-190.

4. Репета В., Шибанов В. Поверхневий натяг паперу і фарби та його вплив на розтікання УФ-лаку // Комп’ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№9. –С.172-174.

5. Репета В.Б., Шибанов В.В., Маршалок І.Й. Вплив поверхневих властивостей картонів на якість продукції, оздобленої фотополімеризаційноздатними лаками // Поліграфія і видавнича справа.- 2002. -№38. – С.78-82.

6. Шибанов В.В., Репета В.Б., Муравський Л.І., Вороняк Т.І. Змочування картонів фотополімеризаційноздатними лаками // Наукові записки. –Львів: УАД,- 2002. -№5. –С.58-62.

7. Репета В., Шибанов В. Властивості покриттів утворених при фотополімеризації УФ-лаків // Квалілогія книги . –Львів: Афіша,- 2002. -№5. –С.44-46.

8. Репета В.Б., Шибанов В.В. Фотополімеризаційноздатні лакові композиції на основі епоксиакрилатних і уретанакрилатних олігомерів // Наукові записки. –Львів: УАД,- 2003. -№6. –С.59-61.

9. Репета В., Шибанов В. Липкість фотополімеризаційноздатних лаків та методика її визначення // Комп’ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2002. -№10. –С.157-160.

10. В.Б. Репета, І.Й. Маршалок, В.В. Шибанов. Ініціююча здатність фотоініціаторів та вплив молекулярного кисню на зносостійкість лакових плівок // Химия и химические технологии. – 2004. - №1. – С.132-134

11. Репета В.Б., Кукура Ю.А., Шибанов В.В. Влияние обработки поверхностей коронным разрядом на характер растекания УФ-лаков // ФлексоДрук Ревю и Спецвиды Печати.-№ 5.-2003.–С. 33-34.

12. Репета В. Шибанов В. Удосконалення технології УФ-лакування офсетних відбитків // Палітра друку.- 2004.-№1. –С. 76-77.

13. В.Репета, П. Ривак, В.Шибанов. Старіння УФ-лакових покриттів // Комп’ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2004. -№.11 –С. 222-224.

14. В.Репета, В.Шибанов. Вплив природи газового середовища на кінетику фотополімеризації УФ-лаків // Комп’ютерні технології друкарства. –Львів: УАД,- 2005. -№13. –С.266-268.

15. В. Репета, В. Шибанов. Оптимальний час висихання офсетних фарб перед УФ-лакуванням // Палітра друку.- 2005.-№4. –С. 70-71.

16. В. Репета, В. Шибанов. Новації у технології лакування в аркушевому офсетному друці // Палітра друку.- 2005.-№6. –С.55-57.

17. В.В. Шибанов, В.Б. Репета. Устройства, генерирующие УФ-излучение // Флексоплюс. – 2006.-№1, 2. –С.55-57, 54-59.

18. Репета В.Б. Вплив поверхневих властивостей картону і фарби на якість плівок, утворених внаслідок фотополімеризації УФ-лаків // Доповіді II-науково-технічної конференції студентів і аспірантів «Друкарство молоде ». -Київ. НТУУ”КПІ”, 2002. –С.80-82.

19. Шибанов В.В., Маршалок И.Й., Репета В.Б. УФ-отверждаемые лаки на основе олигомерных эпоксиакрилатов // Восьмая международная конференция по химии и физикохимии олигомеров «Олигомеры-2002».-Москва-Черноголовка.2002. –С.291.

20. Репета В.Б., Шибанов В.В. Лаковые композиции фотохимического отверждения // Проблемы современной полиграфии: материалы 1 заочной международной научной конференции. -Омск. ОмГТУ.2002. –С.87-89

21. Репета В. Змочування і адгезія фотополімеризаційноздатних лаків // Доповіді IIІ-науково-технічної конференції студентів і аспірантів «Друкарство молоде».-Київ. НТУУ”КПІ”, 2003. –С. 89-91.

22. Репета В.Б. Фотополімеризаційноздатні лаки для оздоблення друкованої продукції // Тези V Української конференції молодих вчених з ВМС. –С.115.

23. Репета В.Б., Шибанов В.В. Вплив газового середовища на кінетику фотополімеризації УФ-лаків // Матеріали першої міжнародної науково-практичної конференції „Науковий потенціал світу 2004”. Том 75. Хімія та хімічні технології. - Дніпропетровськ: Наука і освіта, –С. 34-35.

24. Шибанов В.В., Репета В.Б., Маршалок И.Й. УФ-чувствительные лаки и адгезивы //Пластмассы со специальными свойствами: технологии и применение. Межв. зборник научных трудов.-СПб., СПбГТИ(ТУ), 2004. –С.80-82.

25. Шибанов В.В., Репета В.Б., Маршалок И.Й. Эпоксиакрилатные УФ-отверждаемые лаки // Тезисы докладов. Девятая международная конференция по химии и физикохимии олигомеров «Олигомеры-2005».-Москва-Черноголовка-Одесса. 2005. –С.359.

26. Патент України №72305. Фотополімеризаційноздатний лак для покриття друкарських відбитків // Шибанов В.В., Репета В.Б. – Заявл.14.08.2002. Опубл. 15.02.2005. Бюл.№2.

27. Патент України №73325. Спосіб визначення липкості поверхні фотополімеризаціноздатних матеріалів і пристрій для його реалізації // –Шибанов В.В., Репета В.Б., Стахіра В.М. Заявл.07.05.2002. Опубл. 15.07.2005. Бюл.№7.

28. Заявка на винахід № 2006 05321. Спосіб сушіння фотополімеризаційноздатних лаків ультрафіолетовим випромінюванням і пристрій для його реалізації //Репета В.Б., Шибанов В.В., Босак В.О. Заявл. 15.05.2006.